随着157nm紫外光刻技术的发展,氟化钙晶体已经成为了准分子光刻系统中非常重要的光学镜头材料,氟化钙晶体在157nm的光学性能依赖于其表面质量,要求其表面具有很高的数值精度和超光滑的表面粗糙度,化学机械抛光已经被用来超精密抛光多种晶体和玻璃工件,所抛光的工件无变形层。本文中我们将用这一技术来抛光氟化钙单晶,以在其表面获得深紫外/极紫外光刻级的表面质量,我们应用碱性硅溶胶抛光氟化钙晶体,文中讨论了抛光压力、抛光盘转速、抛光液流速对去除速率的影响。抛光后的表面形貌进行了微米和原子尺度观察,结果证明材料去除速率和抛光参数有密切的关系,通过实验我们获得最佳的参数组合,应用这一参数组合获得最优的表面质量和去除速率。并保证了氟化钙零件加工的尺寸精度和面形精度,在实际应用中可为氟化钙零件加工领域的一线人员提供一定帮助。