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实际应用中的薄膜或多或少存在体折射率不均匀缺陷,其准确表征对于镀膜工艺参数调校、低损耗薄膜设计与制备分析等具有影响。本文通过研究用于反演体折射率不均匀度的数学模型,旨在为光学薄膜缺陷反演提供有效工具。首先,从Schr?der近似出发,推导了体折射率不均匀薄膜的特征矩阵,通过特征矩阵法推广,建立了体折射率不均匀多层膜光谱特性计算的近似模型。利用Born近似和基于有效介质近似,讨论了上述近似模型的有效性、计算精度和时间消耗特性。结果表明,上述模型为多层膜体折射率不均匀缺陷反演提供了一种快速、有效的手段,