【摘 要】
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该文改进和完善了脉冲偏压电弧离子镀的大颗粒净化的理论模型,系统研究了脉冲偏压作用下的等离子体鞘层的物理特性和大颗粒在鞘层中的充电、受力以及运动行为,从理论上给出脉
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该文改进和完善了脉冲偏压电弧离子镀的大颗粒净化的理论模型,系统研究了脉冲偏压作用下的等离子体鞘层的物理特性和大颗粒在鞘层中的充电、受力以及运动行为,从理论上给出脉冲偏压工艺对于大颗粒净化效应的合理解释;对在不同工艺下制备的TiN薄膜样品进行了实验观测和分析,得到薄膜的表面形貌和大颗粒的数量及尺寸分布情况,得到了与计算预见相吻合的实验结果,为大颗粒净化的物理模型提供了佐证.在脉冲偏压电弧离子镀技术的开发中,该模型保证在不明显降低沉积效率的前提下,对得到洁净表面高质量薄膜的工艺优化,有重要指导作用.应用大颗粒净化的物理模型在正交实验基础上进行优化选择,得到净化效果达54%的优化工艺,该工艺满足合成Ti/TiN纳米多层超硬薄膜的要求.
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