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曲面微透镜阵列以其大视场、对动态物体捕捉灵敏度高以及设计自由度高等诸多优点,使其在国防科技、航空航天等现代工业领域有着越来越重要的地位。目前国内外现有的曲面微透镜阵列的制作技术主要是以逐点法加工制作为主,然而这类制作方法周期长,成本高、效率低,在工业化的应用上有很大的限制。本文基于数字掩模光刻技术,利用平面数字掩模的灰度值对曝光剂量进行纵向调制,从而在平面基底上形成曲面微透镜阵列结构。本文深入研究数字掩模、曝光剂量、制作深度的映射关系,研究了基于数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列的方法。该方法与目前