【摘 要】
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在这项工作中,我们用溶胶-凝胶法制备Al(Ⅲ)修饰TiO光催化剂,并使用XRD、HRTEM、XPS、Al NMR等方法对催化剂的结构以及Al的配位环境进行了表征。使用FTIR光谱和UV-vis漫反射
【机 构】
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北京分子科学国家实验室 光化学重点实验室 中国科学院化学研究所 北京 100080
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在这项工作中,我们用溶胶-凝胶法制备Al(Ⅲ)修饰TiO<,2>光催化剂,并使用XRD、HRTEM、XPS、<27>Al NMR等方法对催化剂的结构以及Al的配位环境进行了表征。使用FTIR光谱和UV-vis漫反射光谱研究了染料与催化剂的相互作用、界面电子转移以及可见光下染料的光催化降解。研究发现Al并没有进入TiO<,2>晶格,而是在TiO<,2>表面形成了Al<,2>O<,3>薄层。含有羧基的染料,如Rhodamine B等优先吸附在Al<,2>O<,3>层上,而不是吸附在表面Ti位上。由于Al的修饰,染料罗丹明B的降解速率较TiO<,2>体系提高了五倍。染料的结构和吸附基团种类将影响其在Al(Ⅲ)-TiO<,2>表面的光催化降解反应速率。
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