【摘 要】
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采用射频磁控溅射和直流溅射方法在玻璃基片上低温制备ITO-Ag—ITO薄膜,测试了玻璃的透光度、方块电阻、电阻率,观察了因镀制Ag的膜层的时间的不同而引起的各项参数的变化规
【机 构】
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中国建筑材料科学研究总院,北京市 100024
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采用射频磁控溅射和直流溅射方法在玻璃基片上低温制备ITO-Ag—ITO薄膜,测试了玻璃的透光度、方块电阻、电阻率,观察了因镀制Ag的膜层的时间的不同而引起的各项参数的变化规律,结果表明:随着Ag膜厚度的增加,试样的透过率急剧的下降;方块电阻开始降低的很快,但随着薄膜厚度的增加,电阻数值下降逐渐趋于缓慢Ag膜的电阻率也随着厚度的增加而逐渐的降低.
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