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该文克服了真空石墨电弧沉积过程中的一些难点，成功地利用ＶＣＡＤ法制备了ＤＬＣ膜，并对其表面形貌、硬度及结合强度、结构进行了分析，结果表明：ＶＣＡＤ法是制备综合性能良好的光亮ＤＬＣ膜的有效方法，ＤＬＣ膜为非晶结构，具有明显的ｓｐ〈’３〉结构特征。
VCAD法沉积DLC膜的研究与应用(1)
【摘 要】
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该文克服了真空石墨电弧沉积过程中的一些难点，成功地利用ＶＣＡＤ法制备了ＤＬＣ膜，并对其表面形貌、硬度及结合强度、结构进行了分析，结果表明：ＶＣＡＤ法是制备综合性能良好的光亮ＤＬＣ膜的有效方法，ＤＬＣ膜为非
【机 构】
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有色金属研究院
【出 处】
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'96中国材料研讨会
【发表日期】
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1996年期
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