【摘 要】
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在无机陶瓷膜表面进行原子层沉积(ALD)，是以表面自限制化学反应为机制的薄膜沉积技术，可以在纳米尺度调控薄膜生长。随着过程装备的小型化、高密度、高集成的要求使得ALD技术受到越来越多的重视。目前，较少有文献从流体力学和过程优化的角度对陶瓷膜表面的ALD反应进行分析研究，限制了相应膜反应器的发展。本文从流动与反应过程的耦合作用关系出发，基于计算流体力学(CFD)模型，构建了陶瓷膜表面的ALD反应动力
【机 构】
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南京工业大学化工学院,江苏 南京,210009
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在无机陶瓷膜表面进行原子层沉积(ALD)，是以表面自限制化学反应为机制的薄膜沉积技术，可以在纳米尺度调控薄膜生长。随着过程装备的小型化、高密度、高集成的要求使得ALD技术受到越来越多的重视。目前，较少有文献从流体力学和过程优化的角度对陶瓷膜表面的ALD反应进行分析研究，限制了相应膜反应器的发展。本文从流动与反应过程的耦合作用关系出发，基于计算流体力学(CFD)模型，构建了陶瓷膜表面的ALD反应动力学模型。以氧化铝薄膜在陶瓷膜表面的沉积过程为对象，模拟了气相前驱体和吹扫气的循环脉冲过程，与实验数据比较具有较好的一致性。通过CFD方法“可视化”陶瓷膜管内部多尺度的ALD过程，能够为高性能陶瓷膜反应器的设计提供指导依据。
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