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介绍了一种高速干法刻蚀设备ＮＩＣＰ－１型机。在该机上研究了硅的深腐蚀工艺，其腐蚀速率可达３μ／ｍｉｎ，硅与光刻胶刻蚀速率比达到１２５：１，可满足微机械加工的需要。
ＮＩＣＰ刻蚀设备及工艺研究
【摘 要】
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介绍了一种高速干法刻蚀设备ＮＩＣＰ－１型机。在该机上研究了硅的深腐蚀工艺，其腐蚀速率可达３μ／ｍｉｎ，硅与光刻胶刻蚀速率比达到１２５：１，可满足微机械加工的需要。
【机 构】
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科学院微电子中心(北京)
【出 处】
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第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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1999年期
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