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原子荧光光谱法测定牙膏中的微量砷
原子荧光光谱法测定牙膏中的微量砷
来源 :2005年中国口腔清洁护理用品工业学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cash625
【摘 要】
:
采用HNO3-H2SO4处理牙膏试样,在酸性条件下,原子荧光光谱法测定砷,对仪器条件、HCl酸度、预还原剂用量、还原剂用量、共存干扰进行了试验,方法的检出限为0.0618ng/mL,相对标准偏差
【作 者】
:
廖庆明
梁小勇
【机 构】
:
广西奥奇丽股份有限公司 广西 梧州 543002
【出 处】
:
2005年中国口腔清洁护理用品工业学术研讨会
【发表日期】
:
2005年期
【关键词】
:
原子荧光
光谱法测定
牙膏
相对标准偏差
预还原剂
仪器条件
酸性条件
共存干扰
检出限
回收率
酸度
试样
试验
方法
处理
HCl
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采用HNO3-H2SO4处理牙膏试样,在酸性条件下,原子荧光光谱法测定砷,对仪器条件、HCl酸度、预还原剂用量、还原剂用量、共存干扰进行了试验,方法的检出限为0.0618ng/mL,相对标准偏差为1.7~3.2%,回收率为96~99%。
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