【摘 要】
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本文以原子级平整的云母和硅片作表面模板,用PVD热蒸镀的办法分别沉积上1.3nm和5.0nm的金膜。以云母和硅片为模板沉积的1.3nm厚金膜的形貌有明显差异:前者表现为直径为~80nm
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室;
【基金项目】
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国家自然科学基金创新群体项目(50421502);中国科学院“百人计划”项目
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本文以原子级平整的云母和硅片作表面模板,用PVD热蒸镀的办法分别沉积上1.3nm和5.0nm的金膜。以云母和硅片为模板沉积的1.3nm厚金膜的形貌有明显差异:前者表现为直径为~80nm的卵石状结构,而后者呈现出直径为~50nm的较为均匀的团簇;两者均为非晶膜,其均方根粗糙度分别为0.12nm和0.07nm。云母上沉积的5nm厚金膜表现为紧密堆栈的团簇形貌,团簇直径为~20nm;用谢乐方程估算的晶粒尺寸为~5nm,与薄膜厚度相当。角分辨XPS全谱扫描结果表明所有样品的金膜覆盖率都较高,裸露区域最大线宽不大于10nm。
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