【摘 要】
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采用超声电沉积方法在钼基底上制备了Cu/In双层膜,经过随后的热处理得到了致密的Cu-In合金薄膜.用SEM分析了超声对表面形貌的影响,用XRD研究了薄膜的相组成。结果表明:采用不同的电沉积工艺参数可以调节合金膜的Cu/In比率；超声电沉积可以得到晶粒细小、均匀致密的Cu、In薄膜；电沉积得到的双层膜为CuIn和Cu或In相,经过热处理后转变为CullIn9和Cu或In相.
【机 构】
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北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083 无锡爱芯科微电子有限公司,无锡,214028
【出 处】
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2007全国粉末冶金学术及应用技术会议暨海峡两岸粉末冶金技术研讨会
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采用超声电沉积方法在钼基底上制备了Cu/In双层膜,经过随后的热处理得到了致密的Cu-In合金薄膜.用SEM分析了超声对表面形貌的影响,用XRD研究了薄膜的相组成。结果表明:采用不同的电沉积工艺参数可以调节合金膜的Cu/In比率；超声电沉积可以得到晶粒细小、均匀致密的Cu、In薄膜；电沉积得到的双层膜为CuIn和Cu或In相,经过热处理后转变为CullIn9和Cu或In相.
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