连续非球面微透镜阵列的制作研究

来源 :第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhongguorenaaa

【摘要】

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实验研究了AZ9260正性光刻胶制作深浮雕连续非球面(双曲线)微透镜阵列的光刻工艺,给出了抗蚀剂厚度为17.75μm和35.49μm,石英刻蚀深度分别为35.05μm和72.36μm的最佳光刻工

【作者】

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张晓玉;姚汉民;杜春雷;潘丽;邱传凯;

【机构】

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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

【出处】

：

第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

【发表日期】

：

2003年期

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实验研究了AZ9260正性光刻胶制作深浮雕连续非球面(双曲线)微透镜阵列的光刻工艺,给出了抗蚀剂厚度为17.75μm和35.49μm,石英刻蚀深度分别为35.05μm和72.36μm的最佳光刻工艺参数.提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘方法实现面型控制.并采用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓测试仪测试了所制微透镜的表面微结构形貌.

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