应用于高磁场强度磁共振成像的稀土纳米颗粒造影剂

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hncry
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  磁共振成像(MRI)是一种非侵入式的成像技术,已经被广泛应用于分子成像和临床诊断等领域.然而,MRI的灵敏度较低,临床上往往需要使用磁共振造影剂来提高成像质量.当前MRI领域发展的一个趋势是提高MRI扫描机的磁场强度,因为高磁场强度可以提高信噪比、空间与时间分辨率[1].但当前临床常用的两类造影剂(顺磁性钆的螯合物和超顺磁性氧化铁纳米颗粒)在高磁场强度下均难以实现理想的造影效果.因此,人们迫切需要寻找适用于高磁场强度磁共振成像的造影剂材料.稀土离子(如Tb3+,Dy3+,Ho3+等)具有较短的电子弛豫时间和较高的磁矩,可以在高磁场强度下诱导产生局域磁场梯度从而缩短横向弛豫弛豫时间(T2).我们利用乙二醇溶剂热法合成得到表面包覆聚乙烯亚胺的NH4Dy2F7纳米颗粒,并对其磁共振造影性质进行了研究.该纳米颗粒在7 T下的横向弛豫率高达214.7 mM-1s-1.体内成像的结果表明,该纳米颗粒有望成为应用于高磁场强度MRI的新型T2造影剂.
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