【摘 要】
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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO薄膜.膜厚60~80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700~1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.
【机 构】
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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室(陕西西安)
【出 处】
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第五届中国功能材料及其应用学术会议
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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO<,2>薄膜.膜厚60~80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700~1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO<,2>薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.
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