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对应用于被动毫米波成像的不同扫描方式进行了分析,并重点叙述了二维平面扫描的工作原理,针对传统的辐射计不确定性方程不适用于二维平面扫描方式的问题,通过增加扫描成像总时间作为新的不确定性变量对原方程进行改进,并从理论上讨论了改进后的辐射计不确定性方程适用于二维平面扫描被动毫米波成像系统,从而可以方便地对影响成像质量的各相关因素进行分析。