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本文考察了色氨酸(Try)对化学机械抛光液中的保护作用，通过复配技术研究了Try和苯并三氮唑（BTA）对化学机械抛光液中铜的协同保护作用。选择Try和BTA复配，作为化学机械抛光液中铜缓蚀剂。采用电化学阻抗法和极化曲线法对其效果进行了研究，结果表明15mg／L BTA + 35mg／L Try复配使用，可导致腐蚀电位正移，其保护效率可达87.0％。结论可得，采用Try和BTA复配使用可以增强化学机械抛光液对铜基体的保护作用，有利于提高抛光液的选择性，同时保持较高的抛光效率，降低BTA缓蚀剂对环境的污染。