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采用控电位沉积方式在P-Si上制备了Ni-Pd合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。XRD测试表明Ni-Pd合金呈面心立方的固溶体结构，其晶面间距随合金组成不同而变化。
P型Si上Ni-Pd薄膜的电沉积及XRD研究
【摘 要】
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采用控电位沉积方式在P-Si上制备了Ni-Pd合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。XRD测试表明Ni-Pd合金呈面心立方的固溶体
【机 构】
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天津理工学院
【出 处】
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中国表面工程协会电镀分会第五届年会
【发表日期】
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1998年期
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