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用XPS法精确测量硅片上超薄氧化硅的厚度

来源 :2005年全国粉体设备-技术-产品信息交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：x_men_123

【摘 要】

：

本文给出了氧化硅厚度的计算公式，讨论了光电子发射角和晶体方位角的选择，介绍了硅片上超薄氧化硅的XPS测量方法。

【作 者】

：

刘芬 邱丽美 赵良仲 

【机 构】

：

中国科学院化学研究所,北京,100080

【出 处】

：

2005年全国粉体设备-技术-产品信息交流会

【发表日期】

：

2005年9期

【关键词】

：

氧化硅厚度 计算公式 光电子发射角 晶体方位角 XPS法 

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本文给出了氧化硅厚度的计算公式，讨论了光电子发射角和晶体方位角的选择，介绍了硅片上超薄氧化硅的XPS测量方法。

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