【摘 要】
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对辉光离子轰击下Si3N4陶瓷表面复合电镀层中Ti原子的扩散现象及扩散机理进行了研究。研究发现,辉光离子轰击不仅可使电镀镍钛层中Ti原子向Si3N4陶瓷界面作定向扩散,在陶瓷界
【机 构】
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中国科学院 高功率微波源与技术重点实验室,北京 100190
【出 处】
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2009现代焊接科学与技术学术会议
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对辉光离子轰击下Si3N4陶瓷表面复合电镀层中Ti原子的扩散现象及扩散机理进行了研究。研究发现,辉光离子轰击不仅可使电镀镍钛层中Ti原子向Si3N4陶瓷界面作定向扩散,在陶瓷界面处形成Ti原子的富集,而且可以促进陶瓷界面化学反应的进行,生成Ni3Si、Ni2Si、NiSi2和Ti5Si3等多种化合物。进一步分析认为,辉光离子轰击在镀层表面形成的空位浓度梯度,是造成Ti定向扩散和促进界面反应的主要原因。
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