【摘 要】
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＜正＞当前的工业趋势正在朝着半导体制造业发展,其目标是具有更快的运行速度,较小的器件尺寸,较大的集成规模以及从增加每个单晶硅切片上的元件产量同时减少次品率来减低制造成本。为了满足这些目标,目前的半导体工业进入了超大规模集成半导体电路（ULSI）时代,半导体器件的尺寸不断缩小,芯片中元件密度的不断增加,元件间距离变得越来越小,甚至小到纳米级。然而,在整个生产过程中引入元件间的痕量杂质元素可能使芯片的
【机 构】
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BCEIA2007分析仪器应用技术报告会论文集
【出 处】
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BCEIA2007分析仪器应用技术报告会论文集
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＜正＞当前的工业趋势正在朝着半导体制造业发展,其目标是具有更快的运行速度,较小的器件尺寸,较大的集成规模以及从增加每个单晶硅切片上的元件产量同时减少次品率来减低制造成本。为了满足这些目标,目前的半导体工业进入了超大规模集成半导体电路（ULSI）时代,半导体器件的尺寸不断缩小,芯片中元件密度的不断增加,元件间距离变得越来越小,甚至小到纳米级。然而,在整个生产过程中引入元件间的痕量杂质元素可能使芯片的合格率降低。特定
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