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Co-Cr-Ta合金薄膜是一种重要的磁记录介质,目前广泛应用于磁记录领域。Co-Cr-Ta合金具有铁磁性,有高的磁导率。对于铁磁性靶材来讲,磁通密度(Pass Through Flux,简称PTF)值越高,溅射越容易起孤,溅射效率也会越高,薄膜的质量也会越好。本文讨论了不同热处理制度下Co-Cr-Ta合金微观结构和靶材表面PTF值的变化,并探讨了合金微观结构和靶材表面PTF值之间的关系。