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Simulation of the Effect of SiH4 Concentration on Silicon Film Deposition at Atmospheric Pressure
【机 构】
：
School of Physics and Optoelectronic Technology,Dalian University of Technology,Dalian 116024,China
【出 处】
：
The 8th Asian-European International Conference on Plasma Su
【发表日期】
：
2011年期
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