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<正>本文利用霍尔离子源,放电产生等离子体,轰击石英基片。对基片进行抛光。研究了不同阳极电压、抛光时间、入射角度对抛光效果的影响。实验是在直径700毫米的真空室中进行,基片选用精磨后的石英基片,表面粗糙度的测试用Taylor-Hobson接触式比表面轮廓仪
离子束抛光技术研究
【摘 要】
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<正>本文利用霍尔离子源,放电产生等离子体,轰击石英基片。对基片进行抛光。研究了不同阳极电压、抛光时间、入射角度对抛光效果的影响。实验是在直径700毫米的真空室中进行,
【机 构】
：
陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安工业大学;
【发表日期】
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2004年期
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