【摘 要】
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基于改进的化学气相沉积法结合溶液掺杂技术、以及侧向研磨技术,实验制作出了一种D 型双包层高浓度掺铒光敏光纤.为了同时实现光纤中的大模场直径和铒离子的高浓度掺杂,
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十一研究所,山东青岛266555北京交通大学光波技术研究所,北京100044
【出 处】
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第四届全国信息光学与光子器件学术会议
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基于改进的化学气相沉积法结合溶液掺杂技术、以及侧向研磨技术,实验制作出了一种D 型双包层高浓度掺铒光敏光纤.为了同时实现光纤中的大模场直径和铒离子的高浓度掺杂,其纤芯首次采用了双层掺铒区结构.对该样品光纤的基本参数及光敏特性进行了测试：截止波长为1234.03nm,模场直径约为12μm,在1530nm 处的吸收系数为49.658dB／m,其上刻写的均匀布拉格光纤光栅的透射深度为10dB,对应的反射率为90％.测试结果表明,自制的D 型双包层光纤具有很高的铒离子掺杂浓度和良好的光敏特性,能够为制作全光纤型高功率单模光纤激光器用包层抽运光纤提供一个很好的选择.
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