【摘 要】
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本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究了自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消
【机 构】
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中国科学院电工研究所,北京100190
【出 处】
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2016全国射线数字成像与CT新技术研讨会
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本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究了自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消耗功率和寿命等性能,并与YXLON原带靶材进行性能比较.研究表明,采用磁控溅射制备的钨薄膜与YXLON靶材上的钨薄膜具有相似的表面形貌;在YXLON光机相同工作条件下,自制靶材的X射线出射率略高于YXLON原带靶材的X射线出射率,二者辐射X射线所需的功率相差无几,自制靶材的寿命要长于YXLON靶材的.这表明了自制钨-金刚石靶材能够满足Micro-CT所需的高质量靶材的应用要求.
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