IC装备机器人作业对流场扰动的研究

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随着科学技术飞速发展,尤其是半导体、生物医药等行业的高端化进步,现代工业产品和科学实验活动逐渐趋于微型化、精密化、数字化和清洁化。IC工业中,洁净间作业机器人可实现整个生产加工过程中的自动化,大大减少污染影响,同时提高生产效率。由于高精密度等技术指标对IC工业工艺过程的严格控制,生产环境清洁度作为重要的因素直接影响着产品的质量,通过科学的数值理论进行气体流场的精准分析能够为IC装备产业提供可靠的工艺及结构设计基础。本文基于计算流体力学方法对IC装备机器人所在的洁净间进行研究,建立洁净间空间流场三维模型,综合考虑洁净间洁净度的主要影响因素,探究流场对尘埃颗粒运动状况的直接影响规律;评估气流均匀单向流动时洁净间的尺度优化机制;分析洁净间内部固定和活动机械部件对气流状态及洁净度的动态影响特性等。通过动态数值模拟分析,对FFU空间合理化布置、风格栅地板孔隙率优化、洁净间内部机械设备位置布局等诸多重要设计参数进行了理论分析和数值改进,从理论研究上提高洁净间的洁净度和稳定性,为洁净间的设计提供设计依据。
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