【摘 要】
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本文利用磁控溅射制备了ZnO/Ag/ZnO、AZO/Ag/AZO三层和AZO/LiF/Ag/LiF/AZO、AZO/Al/Ag/A1/AZO五层透明导电薄膜,该体系薄膜400-700nm的平均透过率在80％以上,方块电阻约5Ω/sq.
【机 构】
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华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心
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本文利用磁控溅射制备了ZnO/Ag/ZnO、AZO/Ag/AZO三层和AZO/LiF/Ag/LiF/AZO、AZO/Al/Ag/A1/AZO五层透明导电薄膜,该体系薄膜400-700nm的平均透过率在80％以上,方块电阻约5Ω/sq.相较于AZO/Ag/AZO薄膜,AZO/LiF/Ag/LiF/AZO薄膜在723K退火后方块电阻为5.7Ω/sq,而前者电阻显著上升(25Ω/sq).这表明五层结构的薄膜有效提高了热稳定性,极有可能是LiF或Al层阻碍了Ag的扩散及团聚.
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