论文部分内容阅读
光学元件的亚表层损伤是指光学元件在研磨及抛光加工过程中在表面下产生的微裂纹和残余应力。对于抛光光学元件亚微米量级的表面损伤，光在损伤处会产生强烈的散射效应，其在像面的分布情况不能简单地使用几何光学进行解释。本文针对光学元件亚表层损伤的检测问题，结合有限元分析、数学仿真的方法，建立了光学元件亚表层微裂纹损伤的电磁理论模型，研究聚焦光斑到达损伤后的散射光场分布，以及不同深度下用共聚焦显微镜扫描探测得到的光信号变化规律。论文最后对已知损伤进行了实际的扫描探测，与理论仿真结果进行了比对，结果表明，实验中得到的表面损伤的像面光强分布情况与理论模拟基本吻合，为光学元件的加工制造和损伤检测的尺度标定提供了理论依据和参考。