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利用径向基函数网络插值法模拟薄膜表面形态，并利用反距离加权平均插值法研究了薄膜的均匀性与静置时间和提拉速度的关系。结果表明：利用离散点插值拟合法研究光学薄膜表面的起伏变化以及均匀性分布，可以比较真实地反映薄膜表面形态特征和薄膜均匀性的变化规律。
插值拟合法在薄膜表面形态模拟及均匀性分析中的应用研究
【摘 要】
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利用径向基函数网络插值法模拟薄膜表面形态，并利用反距离加权平均插值法研究了薄膜的均匀性与静置时间和提拉速度的关系。结果表明：利用离散点插值拟合法研究光学薄膜表面的起
【机 构】
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同济大学，精密光学工程技术研究所，上海 200092
【出 处】
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2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会
【发表日期】
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2007年期
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