在Si衬底上化学汽相沉积大面积优质3C-SiC薄膜

来源 :第六届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wik2pwerq32
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在国内,该文首次报道在Si衬底上,采用化学汽相沉积技术生长出直径达30mm的大面积优质3C-SiC单晶薄膜,表面光亮如镜,其(111)面的X射线衍射峰(20θ=35.6°)半高宽≤0.4°,室温付里叶变换红外透射谱特征吸收峰(794.7cm<-1>)强,且狭窄尖锐,二者充分表明了晶体结构优异,组份单一。文章还指出适当调整生长条件可以基本消除界面处的晶格畸变。
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