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非平衡磁控溅射制备氧化钛薄膜的电化学阻抗图谱研究
非平衡磁控溅射制备氧化钛薄膜的电化学阻抗图谱研究
来源 :第十四次全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:judy17318
【摘 要】
:
本文采用非平衡磁控溅射法在钛基体表面制备氧化钛薄膜,研究了薄膜在PBS溶液和添加纤维蛋白原的PBS溶液中的电化学行为。电化学阻抗(EIS)图谱结果显示薄膜的各反应电阻和相位
【作 者】
:
高飞
万国江
陈松妹
黄楠
【机 构】
:
西南交通大学材科学院,先进材科技术教育部重点实验室,四川,成都,610031
【出 处】
:
第十四次全国电化学会议
【发表日期】
:
2007年期
【关键词】
:
非平衡
磁控溅射法
溅射制备
氧化钛薄膜
电化学行为
溶液
纤维蛋白原
显示
界面结构
化学阻抗
合成工艺
反应电阻
电荷转移
表面制备
相位差
钛基体
图谱
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本文采用非平衡磁控溅射法在钛基体表面制备氧化钛薄膜,研究了薄膜在PBS溶液和添加纤维蛋白原的PBS溶液中的电化学行为。电化学阻抗(EIS)图谱结果显示薄膜的各反应电阻和相位差随着薄膜的合成工艺的改变而不同,显示出薄膜/溶液界面结构及其对电荷转移的阻碍存在差异。
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