本文首先介绍了荷电镶嵌膜的制备方法，然后从膜微观结构、分离性能、传递原理和实际应用方面进行了讨论，针对存在的问题阐明了其发展方向。荷电镶嵌膜的制备方法主要有嵌段共聚、相生长外延、聚合物共混、微球凝胶、有机-无机杂化、层状叠加和界面聚合等方法。结果表明，荷电镶嵌膜十分有利于电解质的传递。利用这一特征，通过压力渗析可以制备出纯水，但由于膜的厚度较大，产量很低，难以与反渗透膜竞争。但是，荷电镶嵌膜在低分子量有机物与无机盐的分离方面有广阔的前景，界面聚合制备的荷电镶嵌膜已经用于数码印花用高纯染料的制备过程。荷电镶嵌膜的研究方向为尽可能提高荷电镶嵌膜的荷电容量，并使正、负电荷数量相匹配，提高膜的选择性；同时设法降低膜的厚度，提高膜的透过通量；进一步强化膜结构参数的表征技术；深入研究荷电镶嵌膜的传递机理；研究膜污染情况和清洗方法，扩大膜在工业中的实际应用。