金硼靶材制备工艺研究

来源 :第十三届全国核靶技术学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq8520963
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  Au/B黑腔内衬层新型材料被认为可以显著提高黑腔对激光的吸收,对实现点火,降低激光运行能量具有非常重要的意义.目前采用磁控溅射单质Au靶与射频溅射单质B靶共溅射镀膜工艺制备Au/B黑腔内衬层,但由于B靶溅射工艺不易稳定,成分难以精密控制且成品率低,给制靶带来了极大的困难,同时,成分不稳定也给物理实验带来了不确定性.采用Au/B合金单靶溅射可以使膜材成分控制更精确,不同批次及同一黑腔不同位置的成分波动小,镀膜质量高,是解决膜材稳定性和成品率问题的可能途径.Au/B合金结等工艺制备了Au-B和Ag-B实验样品,研究了除气、热压、烧结工艺对靶材氧含量、致密度等的影响.实验结果表明,通过对粉体原料及预制坯的低温、高真空、长时间除气处理,可以有效降低样品中氧等气体杂质;烧结温度低于750℃时,致密度随温度的升高而增加,温度超过750℃时,闭合气孔增加引起“反致密化现象”,导致靶材致密度下降.靶材的成分、组织均匀性对膜层的质量有重要的影响,合金靶材的制备是关键.由于Au、B材料熔点、密度、蒸汽压等性质的差异大,Au、B两相不易形成合金或化合物,通过熔炼方法制备合金靶的难度较大.本研究采用热压烧结的方法对靶材的制备工艺开展了相关的实验探索.
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