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本文阐述了传统半导体工业用含氟清洗气体的主要品种及对环境的影响。并通过技术创新，研发出新一代含氟清洗气体，其GWP值低甚至为零，清洗效率高，后处理简单。代表性的新一代含氟清洗气体是COF2，其他如F2,ClF3等。并对COF2、ClF3的研发及效果进行了概述。
半导体工业用含氟清洗气体研究进展
【摘 要】
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本文阐述了传统半导体工业用含氟清洗气体的主要品种及对环境的影响。并通过技术创新，研发出新一代含氟清洗气体，其GWP值低甚至为零，清洗效率高，后处理简单。代表性的新一代
【机 构】
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浙江省化工研究院有限公司
【出 处】
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2012中国氟化工技术与应用发展研讨会暨重庆市氟化工产业园推介会
【发表日期】
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2012年11期
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