目的:探讨微种植体配合上颌横腭杆在固定矫治中压低上后牙的效果,为正畸临床垂直向支抗控制的选择提供参考。方法:选择安氏Ⅱ类1分类,高角的青少年正畸患者23例作为研究对象,均采用双颌固定矫治器进行正畸治疗,用横腭杆连接双侧上颌第一磨牙,在上颌双侧第一磨牙和第二磨牙之间颊侧,分别植入一颗微种植钉（直径1.5 mm,长度8mm）,并对上颌第一磨牙施以150g的压入力。在植入微种植钉时（T0）、负载一个月后（T1）、负载三个月（T2）后分别拍摄头颅定位侧位片,并制取上颌石膏模型。用Dolphin软件测量第一磨牙到pp平面的垂直距离,在石膏模型上测量双侧上颌第一磨牙近中腭尖之间的宽度,并用t检验进行统计学分析。结果:23例进行测量分析的病例中,上颌第一磨牙均发生压入移动,T1较T0时平均压低0.97±0.21mm,T2较T0时平均压低2.82±0.43mm。T1、T2与T0期相较,上颌双侧第一磨牙近中腭尖间的宽度的差异无统计学意义。结论:上后牙区颊侧微种植体支抗配合上颌横腭杆可以作为较好的垂直支抗控制系统,能有效压低上后牙,且不发生颊倾。