铜线材酸性高速电镀致密、光亮锡、锡铜合金工艺

来源 :2002全国电子电镀学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Garyzhaoqi
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
为了寻找低费用、低腐蚀、低污染高速电镀锡、锡合金工艺,在含DL01、02、03的硫酸槽中在不同的电流密度DK(A/dm<2>),不同的搅拌速度V(m/min)下在φ0.5mm的铜线上电镀Sn和Sn-Cu合金镀层.DL01、02的主要成分是无芳香族的希夫碱,DL03的主要成分是醇醛缩合物.在实验中,待镀铜线与具有测速仪表的旋转电极相连.测定了电镀电流效率η(﹪),镀层的质量用镀层的致密性、柔软性和光亮性来判断.结果表明,在含有DL01、03及50g/l SnSO<,4>,124g/l H<,2>SO<,4>的槽液中,在Dk(A/dm<2>)5~63,V(m/min)30~188,所得镀层光亮.仅在Dk(A/dm<2>)5、10时获得的镀层柔软,其余镀层具有脆性,虽然η(﹪)大约为100.加5ml/1 DL02至含DL01、03及35g/l SnSO<,4>、137g/l H<,2>SO<,4>的槽液中在Dk(A/dm<2>)10~90,V(m/,min)160、314及η(﹪)89~98﹪.所得镀层致密、柔软、光亮.DL02是柔软剂,它消除了由DL01、DL03所产生的内应力.在含CuSO<,4>·5H<,2>O0.5,3.5g/l CuSO<,4>·5H<,2>O的硫酸镀槽中,在Dk(A/dm<2>)9、18,V(m/min)160时获得了致密、柔软、光亮的Sn-(0.3~0.6﹪)Cu合金镀层.该镀层具有可焊性,能用来代替可焊性Sn-Pb镀层.
其他文献
应用两电极体系控制阳极电流电沉积的方法制备了纳米TiO多孔薄膜,TiO薄膜对罗丹明B具有良好的光催化降解活性,测得反应速率常数为2.2×10min.薄膜对于400nm~700nm的可见光具有良好的透明性.
在较低浓度的硝酸银溶液表面铺展一层硬脂酸单分子膜,用电沉积的方法可在单分子层下生成纳米银微粒薄膜.通过TEM和AFM观察,表明纳米银微粒为多晶结构.工艺研究发现,随着AgNO溶液浓度的增加,生成的纳米银微粒的平均粒径变大;在保持其它条件不变的情况下,电沉积时电压越大,生成的纳米银微粒就越小;在没有铺展单分子层的情况下,在AgNO溶液表面不能生成纳米银微粒薄膜.分析表明,用电化学膜模拟方法沉积纳米银
通过电化学的方法,以多孔铝阳极氧化膜(AlO/Al)为模板,制备金属银纳米线.透射电子显微镜(TEM)分析表明:银纳米线长度平均约为5μm,直径25nm;银纳米线在多孔AlO/Al孔内互相平行,显示凸凹相间的条纹结构.选区电子衍射(SAED)证实银纳米线具有面心立方(FCC)的多晶结构.
用电沉积方法制备了纳米Ni-Mo-Fe合金沉积层,用XRD、XPS方法对沉积层的结构进行了表征,结果表明,Ni-Mo-Fe合金出现较大的晶格畸变,纳米合金各物种的结合能发生不同程度的位移.在30﹪的KOH溶液中的阴极极化曲线表明,纳米Ni-Mo-Fe合金电极具有良好的析氢电催化活性.电化学的交流阻抗谱表明,低过电位时该合金电极析氢过程经历Volmer-Tafel机理,即吸附态的氢经化学脱附形成氢气
应用两电极体系控制阳极电流电沉积的方法制备了纳米TiO多孔薄膜,SEM测试表明薄膜由TiO纳米粒子组成,粒子之间存在纳米级小孔.TiO薄膜对罗丹明B具有良好的光催化降解活性,测得反应速率常数为2.2×10min,薄膜对于400nm~700nm的可见光具有良好的透明性,通过小水滴直径测量计算接触角的方法研究了薄膜的亲水性.
本文以氧化铝多孔膜板为阴极,采用交流电沉积方法,在高氧酸铋溶液中进行电沉积,可沉积出一维铋纳米线,制备出具有一维铋纳米陈列结构的热电材料.
本文介绍了以单分子膜为基底,化学/电化学沉积纳米复合薄膜的发展现状,并对该法的制备原理、工艺条件、膜结构、及其表征方法进行了阐述,还对发展方向进行了展望.
利用单分子膜为模板可诱导晶体取向生长.本文通过电沉积方法在硬脂酸单分子膜上制备了金属银膜,考察了溶液pH值、单分子膜表面压及槽电压对银膜形貌及结构的影响;研究了银膜的生长机制并利用扫描电镜SEM对银膜进行了表征.
本文通过制备TiO的工艺研究制备多孔TiO纳米薄膜的烧结温度、膜的厚度对电极的光电压、光电流的影响,比较不同工艺条件下电极的光电响应.
在恒电位脉冲的条件下,采用搅拌和循环镀液的方法以避免二价铬的干扰,从含三价铬的镀液中电沉积出镍-铁-铬合金.X衍射结果表明沉积的镀层为晶体结构,存在较强的(111)织构.扫描电镜的结果显示电沉积出的镍-铁-铬合金的晶粒尺寸小于100纳米,为纳米晶体.通过增重和能谱(EDS)相结合的方法计算出此条件下的沉积速度电流效率要比直流电沉积条件下的高,并可获得厚镀层.电化学分析表明随着电流密度的增大,镀层中