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本研究尝试以触媒氧化法来处理一氧化氮,使用之触媒为以含浸法(Impregnation)制备之载体铜触媒,包括Cu/TiO<,2>、Cu/Al<,2>O<,3>及Cu/SiO<,2>.实验探讨的部分共分为触媒之筛选与操作参数之探讨.在触媒筛选方面,本实验探讨以三种铜离子来源(硝酸铜、醋酸铜、硫酸铜)与三种载体(TiO<,2>、Al<,2>O<,3>、SiO<,2>)配置成之触媒活性大小作一比较,结果显示以硝酸铜配置之Cu/TiO<,2>处理效果较佳,且有较宽广之温度操作区间,并比较不同铜附载量得知,8wt.℅是最经济之量,所以本实验结果显示8wt.℅之Cu/TiO<,2>为最佳的选择.在操作参数探讨方面,NO入口浓度的大小会对触媒氧化效率造成影响,在入口浓度大于1000ppm时,浓度越高,转化率会越低,而在入口浓度小于1000ppm时转化率几乎不随入口浓度而变化.在空间速度的选择方面,实验结果显示,空间速度为15000hr<-1>,也就是空床停留时间约在0.24秒时为较经济的操作条件.而在水气的影响方面,高的绝对湿度确实会对反应造成抑制这效果,可是抑制的情形很轻微,所以本触媒氧化反应亦适合在高湿度下操作.