光子晶体是一类具有光子带隙的人工微纳米结构材料，至今为止，对于三维光子晶体制备技术的研究已经比较成熟。自从1991年Yablonovitch等人制备出了第一个具有真正光子带隙的三维光子晶体[1]之后，研究人员又广泛地将化学、离子束刻蚀方法应用于三维光子晶体的制备中。现代光学技术的发展也带来了诸如全息成像刻蚀法、双光子聚合法等制备方法。以上方法都是从宏观材料出发最后得到微观周期性结构，这些方法被统称为自上而下法。另一大类方法叫做自下而上法，也就是自组装法。自组装法一般从微观单分散胶体微球出发，通过电泳法、表面毛细力法、垂直沉积法、提拉沉积法等自组装方法，得到宏观的三维光子晶体。用自组装法得到的是蛋白石结构的光子晶体，后来研究人员又以此为基础开发出模板辅助法，成功制备出了反蛋白石结构光子晶体。与蛋白石相比，反蛋白石结构光子晶体具有完全光子带隙，并且制备材料选择范围更大，应用范围更广。近年来又出现了一些新型的光子晶体，比如将液晶填充到反蛋白石结构光子晶体空隙中可以制备出光子带隙可调的液晶光子晶体[2]；将磁性材料引入三维光子晶体可以制备出三维磁性光子晶体[3]。三维光子晶体具有优异的性质。光子禁带效应作为其最基础的特性，发展出了光子晶体光纤以及高Q微腔等；负折射效应可以实现"超透镜效应"以及非线性效应等。本文简要介绍三维光子晶体的制备技术及其最新研究进展。