【摘 要】
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根据多年从事真空镀膜的研究工作,作者越来越感觉等离子体增强沉积薄膜技术对沉积优质薄膜必不可少;因此,作为这一技术的支撑-等离子体源技术迎来了重大的发展机遇,有必要加
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根据多年从事真空镀膜的研究工作,作者越来越感觉等离子体增强沉积薄膜技术对沉积优质薄膜必不可少;因此,作为这一技术的支撑-等离子体源技术迎来了重大的发展机遇,有必要加强有关基础和应用研究。本文概述了等离子体增强沉积薄膜技术的发展,阐明了等离子体增强的物理概念和依赖的技术基础。在薄膜沉积技术领域中,等离子源技术经过多年的发展,无论是有极放电还是无极放电,许多指标都获得了大幅度地提高,特别在高电子密度和低气压运行方面获得了实质性的进展,可以获得与多种薄膜沉积技术配合使用;依赖于等离子体源技术的离子束技术也在引出束流密度方面达到了实用需求。
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