氮气氛保护下直拉硅单晶的直径控制

来源 :1998年全国半导体硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:S82415127
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在大直径硅单晶生长中,直径控制是十分关键的,它直接影响单晶的成品率。影响直径控制好坏的因素很多,而保护气氛的种类、流量和压力等是影响直径控制的重要因素。采用浙江大学的专利工艺---减压氮保护硅单晶生长,不但对硅片的机械性能、电学性能有极大的提高,而且对单晶的直径控制亦有利。该文正是研究了这方面的机理。
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