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实验分别研究了低浓度的HF+HCI、HF+H2SO4、HF+HNO3三组混合酸常压酸浸,HCl、HNO3两种酸加压酸浸和铵盐常压及加压浸出对工业硅中杂质B的去除影响。结果表明NH4Cl+试剂X+试剂Y体系在加热的条件下除硼效果最佳,可去除工业硅中的B,去除率在50%左右。
冶金法制备太阳能级硅中湿法除B探索研究
【摘 要】
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实验分别研究了低浓度的HF+HCI、HF+H2SO4、HF+HNO3三组混合酸常压酸浸,HCl、HNO3两种酸加压酸浸和铵盐常压及加压浸出对工业硅中杂质B的去除影响。结果表明NH4Cl+试剂X+
【机 构】
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昆明理工大学真空冶金国家工程实验室,云南省高校硅冶金与硅材料工程研究中心,云南 昆明 650093
【出 处】
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2012年全国冶金物理化学学术会议
【发表日期】
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2012年期
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