【摘 要】
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半导体前道光刻技术,采用氟化氩激光和浸液技术(ArFi)、偏振照明技术、并与多重曝光技术相结合,目前已经实现2Xnm～1Xnm节点的量产,其中偏振照明技术是浸液光刻机必备的、关键的分辨率增强技术(RET).照明光的振动方向、偏振度、偏振纯度、偏振强度等参数对实现各种不同图形的精确曝光至关重要,必须对照明光的各种偏振参数进行精确控制,而高精度偏振态检测是高精度偏振态控制的前提.
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海市嘉定区清河路390号,201800
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半导体前道光刻技术,采用氟化氩激光和浸液技术(ArFi)、偏振照明技术、并与多重曝光技术相结合,目前已经实现2Xnm～1Xnm节点的量产,其中偏振照明技术是浸液光刻机必备的、关键的分辨率增强技术(RET).照明光的振动方向、偏振度、偏振纯度、偏振强度等参数对实现各种不同图形的精确曝光至关重要,必须对照明光的各种偏振参数进行精确控制,而高精度偏振态检测是高精度偏振态控制的前提.
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