阳离子铱(Ⅲ)配合物掺杂的SiO2薄膜的制备及发光性能研究

来源 :2015年中西部地区无机化学化工学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kunhodde

【摘要】

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　　将阳离子铱(Ⅲ)配合物[Ir(ppy)2(o-phen)]PF6(ppy：2-苯基吡啶；o-phen：1-乙基-2-(4-(5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑-2-基)-苯基)-1H-咪唑并[4,5-f][1,10]菲啰啉)掺杂到SiO2

【作者】

：

孟国云骆倩陈泽宇魏丽莹沈先望刘长丽唐怀军

【机构】

：

云南民族大学化学与生物技术学院,云南昆明 650500

【出处】

：

2015年中西部地区无机化学化工学术研讨会

【发表日期】

：

2015年期

【关键词】

：

阳离子配合物掺杂浓度 SiO2薄膜制备发光强度苯基灼烧温度

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　　将阳离子铱(Ⅲ)配合物[Ir(ppy)2(o-phen)]PF6(ppy：2-苯基吡啶；o-phen：1-乙基-2-(4-(5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑-2-基)-苯基)-1H-咪唑并[4,5-f][1,10]菲啰啉)掺杂到SiO2溶胶中,再通过浸涂-提拉法在玻片上制备出发光薄膜,当掺杂浓度为8％,灼烧温度为170℃ 和灼烧时间为1.5h 时,薄膜发光强度最大.

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