【摘 要】
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共轭聚合物因可用于制备大面积柔性光电器件而引起了越来越大的研究兴趣。共轭聚合物薄膜的微结构对其光电性能有很大的影响，因此如何对其进行更好的表征变得越来越重要。
【机 构】
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高分子物理与化学国家重点实验室,中科院长春应用化学研究所,吉林省长春市人民大街5625号,130022
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共轭聚合物因可用于制备大面积柔性光电器件而引起了越来越大的研究兴趣。共轭聚合物薄膜的微结构对其光电性能有很大的影响，因此如何对其进行更好的表征变得越来越重要。我们用掠入射X射线衍射(GIXRD)表征了一系列共轭聚合物薄膜，发现这种技术能够更真实全面地表征出共轭聚合物的微结构。比如对于结晶度很低的β相聚辛基芴(PFO)薄膜GIXRD可以消除基底的影响测试到很弱的衍射峰；对于α相PFO薄膜同步辐射GIXRD可以消除实验室衍射仪面内分辨率差的缺点得到真实的分子链取向结构；对于P3HT/PCBM薄膜同步辐射二维GIXRD能更全面地得到分子链取向结构；对于I相/Ⅱ相混合的P3BT薄膜同步辐射二维GIXRD可以利用其高空间分辨率的特点进行更方便的结构解析。
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