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矽铁生产中降低单位电耗的途径
【机 构】
:
湖南铁合金厂
【出 处】
:
首届硅铁合金学术讨论会
【发表日期】
:
1987年期
其他文献
采用射频反应溅射工艺分别在含氟气氛中溅射SiC靶和在含碳气氛中溅射SiN靶制备了两种无定形硅碳氮薄膜.通过NanoIndenter XP型显微硬度分析仪来测量薄膜的硬度.分析了薄膜硬