【摘 要】
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利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr纳米薄膜,用四种工艺制度对NiCr纳米薄膜电阻进行了热处理,分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定
【机 构】
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中南大学信息材料与计算科学研究所; 中南大学物理学院;
【基金项目】
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国家自然科学基金(69971007,69890227);教育部优秀青年教师资助计划项目资助
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利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr纳米薄膜,用四种工艺制度对NiCr纳米薄膜电阻进行了热处理,分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响,获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数。实验结果表明:在SiOx薄膜和N2的保护下于温度为673K退火1小时,然后在473K下保温24小时可获得最稳定的NiCr纳米薄膜。用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器芯片。
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