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采用分步沉淀法,以自制含硅溶液和氨水反应制备高纯SiO2粉.实验分析了溶液pH值、氨水浓度及酸洗工艺对SiO2粉纯度的影响,结果表明:除去含硅溶液在pH值为7时的沉淀物后,继续与氨水反应的沉淀物经过酸洗,可得到常规金属杂质含量低于2ppm的超高纯纳米SiO2粉.
沉淀法制备高纯二氧化硅粉
【摘 要】
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采用分步沉淀法,以自制含硅溶液和氨水反应制备高纯SiO2粉.实验分析了溶液pH值、氨水浓度及酸洗工艺对SiO2粉纯度的影响,结果表明:除去含硅溶液在pH值为7时的沉淀物后,继续与
【机 构】
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华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室广东广州510631宏伟石英制品有限公司江苏连云港222313
【出 处】
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第十五届全国非金属矿加工利用技术交流会
【发表日期】
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2014年10期
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