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本文通过研究硅靶中频反应磁控溅射SiO<,2>膜工艺特点及氧气分压对ITO膜特性影响,研究中频反应溅射SiO<,2>膜与直流溅射ITO膜的在线联镀工艺.
中频反应溅射SiO膜与直流溅射ITO膜在线联镀研究
【摘 要】
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本文通过研究硅靶中频反应磁控溅射SiO膜工艺特点及氧气分压对ITO膜特性影响,研究中频反应溅射SiO膜与直流溅射ITO膜的在线联镀工艺.
【作 者】
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【机 构】
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深圳豪威光电子股份有限公司(深圳) 清华大学电子工程系(北京)
【出 处】
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2002中国平板显示学术会议
【发表日期】
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2002年3期
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