含氢碳膜的制备及其摩擦学性能研究

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本文用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积含氢碳膜。利用激光拉曼光谱(Raman)检测薄膜的微观结构,利用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌,利用摩擦磨损试验机测试薄膜的摩擦学性能,利用紫外-可见光分光光度计研究沉积含氢碳膜的光学性能。结果表明:利用RF-PECVD方法在PC片上沉积的薄膜为类金刚石(DLC)薄膜,镀膜后PC片的摩擦系数和抗磨损性能均有明显改善,且对基底材料可见光区光学性能的影响不明显。通过对不同过渡层的研究发现增加硅过渡层对形成高质量的含氢碳膜更加有利。
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